公司介绍
神光光学集团有限公司始创于2007年(前身技术研发始于2002年),注册资本1.86亿元,是一家专注高品质合成熔石英玻璃研发与生产的高新技术企业。公司以合成紫外熔石英玻璃(I类、JGS1、ZS)为核心,深耕行业20余年,是国内合成熔石英玻璃领域技术引领者。
2005年,公司突破大规格熔石英玻璃制备技术瓶颈,成功研制国内首根Φ230×1570mm熔石英玻璃毛砣,开创了立式沉积工艺国产化先河。作为该工艺的国内开拓者,神光光学打破了行业长期依赖进口的局面,推动产业链实现技术升级与跨越式发展。
公司坚持自主创新,攻克多项关键核心技术,拥有多项国家专利,承担国家级、省部级、市级科研项目20余项,技术指标达国内领先、国际先进水平。其产品广泛应用于航空航天、精密光学、光刻技术、半导体等高端领域,作为国内高端合成熔石英玻璃的核心供应商,技术实力位居国内行业首位。
近年来,公司进军半导体光掩模基板领域,成功开发多款TFT及芯片用光掩模产品,并取得了关键性进展和标志性成果,技术指标全面满足客户需求,标志着公司正式迈向半导体国际产业链,实现国产化替代的新突破。

致力于成为全球领先的光学产品集成解决方案提供商
COMMITTED TO BECOMING A LEADING GLOBAL PROVIDER OF INTEGRATED SOLUTIONS FOR OPTICAL PRODUCTS.业务布局

产学研合作
IUR COOPERATION神光光学拥有一流的研发中心和生产基地,与国内多所高校开展深度的产学研合作,共同开展项目研发和课题攻关,与武汉理工大学共同建立了“四川神光-武汉理工光学新材料技术研究中心”,与西南科技大学建立联合实验室。四神光在与院所、高校的产学研合作中,取得了前沿的技术理论与实验结果、在不断的经营发展中,积累了供应链上下游的先进技术资源、在不断的研发创新中,逐步实现关键技术的攻关克难。

产业链协同
INDUSTRIAL CHAIN COORDINATION神光光学集团生产的熔石英玻璃主要应用于各类精密光学系统的镜头以及半导体产业中的掩模版。掩模版是一种刻有微电路图案的高精度板,通常由表面平整且涂有一层铬的石英板或玻璃板制成。经过蚀刻后,铬层的残留部分形成了设计的微电路图案,作为液晶显示器和半导体制造过程中图形转移的关键高精度工具,对最终产品的精度起着至关重要的作用。随着神光光学集团全球最大768吨新产能的落成,预计将重塑掩模版市场的格局。公司不断追求技术创新,持续解决技术难题以促进技术成果的转化,并致力于开拓大尺寸光掩模基板以及光刻机材料应用等高端民用市场。
主要成绩
通过多年不断的实践、探索和总结,神光光学凭借技术和研发优势,取得了以下成绩


开创了国内立式沉积工艺生产紫外熔石英玻璃的先河,改变了国内长期以来行业工艺技术落后的局面,有效促进了行业技术的升级换代和快速发展


主导产品大口径熔石英玻璃最关键指标光学非均匀性实现8×10-7突破,产品各项性能指标均处于国内领先水平,技术成熟度显著提高,是目前国内唯一达到这一质量水平的单位,填补了国内的空白。


在2020年参与了《高透不透明石英玻璃》国家标准的制定,以技术引领行业革新,走在了行业前端。